장비 > PECVD

 

장비 게시판글 내용보기
PECVD
작성자 jnsinc 등록일 21-01-20 15:44 조회 474
제작사 Bmr Technology 모델명 HiDep 도입연도 2005-02
용도 강한 전압으로 야기된 Plasma를 이용하여 반응물질을 활성화 시켜서 기상으로 증착

? Use : Silicon dioxide and silicon nitride
? Wafer size : 6 inch wafer
? Product wafer : Single wafer process
? Substrate temperature : RT ~ 400°C
? Ultimate pressure : ?5x10-6 Torr
? Source Process : SiH4, N2O, CF4
? RF generators : 13.56MHz and 400KHz
? Gas : line and cabinet installation with safety parts (automatic control)
? Scrubber : burn and wet type installation
첨부파일 HiDep.jpg
검색 목록보기