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장비 > CMP
CMP | |||||
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작성자 | 관리자 | 등록일 | 21-09-01 01:56 | 조회 | 590 |
제작사 | PNS International | 모델명 | PSPM1821-A | 도입연도 | 2021.02.22 |
용도 | |||||
? Polishing Plate(table) -Plate : 18inch dia Stainless steel Ø457×Ø160 x 45mmt -평면도 : 0 - 3um 이내 ,Run out : 10um 이내 -Plate R.P.M. : 20 ~ 150 R.P.M -Water Cooling Plate System ? Polishing Head (Vacuum type) -Diameter : ø165 -Material : Stainless steel -Speed : 10 - 80rpm -Pressure : 5-300gram/cm2 for 4" & 6" wafer variable air pressure eletronic controller ? Process : 5 step process (rpm, pressure, time, slurry ,DI ) -Multi recipe : 10 recipe process -Ceramic work carrier 4" & 6" wafer ? Slurry pump -pump : roller pump -Nozzles : Silicone tube -Flow Rate : Max 50 ml/min , Slurry tube post ? New type Oscillation (Bridge type ) -Bridge type Oscillation and Diamond dressing system -Nylon Brush for Pad Cleaning and Di Water Rinse -Diameter : ø180mm ( 0.5mm brush, 10mm ) -R.P.M. : 10 - 80 -Dressing Mode By Recipe : table rpm, head rpm, di ,weight ,time ? Control -Control : Touth & PLC + Programma ? Main -Main Motor Drive : 2.2kW, 220V, 3 P -Slow Start & Slow Stop Function -Machine Weight : 1,600Kg -Machine Dimension(W×D×H) : 1,100ⅹ1,600ⅹ2,000mmh |
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첨부파일 |
Image2.jpg |