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장비 > Mask Aligner
Mask Aligner | |||||
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작성자 | jnsinc | 등록일 | 21-01-20 15:44 | 조회 | 870 |
제작사 | Suss Microtec | 모델명 | MA6 | 도입연도 | 2004-05 |
용도 | 포토리소그래피 공정에 사용되는 장비로 반도체 소자 혹은 집적회로의 형상의 마스크 패턴을 웨이퍼 표면의 포토레지스트(PR)에 전사하는 장치 | ||||
? Alignment Mode : Manual ? Alignment Accuracy : top-side?1um, bottom-side?2um ? Print mode : Proximity & Contact, soft contact, hard contact, low vacuum & vacuum contact ? Wavelength : 365 nm ? Microscope Magnification : 5x ? Resolution : 1 um ? Possible Mask : 4-6 inch mask |
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첨부파일 |
Mask Aligner.jpg |