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ICP/RIE for Fluorine
작성자 관리자 등록일 22-02-14 12:45 조회 668
제작사 소로나 모델명 T306-014 도입연도 20070324
용도 플라즈마를 이용해 Chemical 과 Physical 방식을 혼합하여 사용하는 건식 식각을 하며 Anisotropic과 Selectivity, Etch Rate의 특성을 선택적으로 고를 수 있음

1) Wafer : 2“ ~ 8”
2) Chuck 냉각 방식 : Chiller 및 He 냉각
3) Chamber 내 기본 진공도: <1×10-5 Torr
4) 고진공 Pump 장치 : 자기 부상형 Turbo Molecular Pump
5) 사용 가스 : Ar O2 CF4 HBr BCl3 SF6 N2
6) ICP source power : RF 방식 1.25kW 13.56MHz 자동 안정화 기능(auto-matching)
7) Chuck bias power : RF 방식 600W 13.56MHz 자동 안정화 기능(auto matching)
8) RF matching network : 자동 조절 기능
9) Process 자동 조절 기능
10) Loadlock 에서 Process chamber 로 시편을 자동 이송
11) 열방출 광학계를 이용한 플라즈마 분석장비
- 실시간 data 수집기능 이 가능한 고감도 CCD array 장착
- EPD(end point detector) algorithm
- EOP를 이용한 경고 알림 기능
- 여러 파장대 분석 기능
- 파장 범위 : 200 ~ 850nm
첨부파일 ICP-RIE(for Fluorine) (2).jpg
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